CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术是用于获取高质量的玻璃表面，抛光剂销售，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，抛光剂价格，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。
化学抛光适用什么材料？工艺原理是如何的
您好！
化学抛光主要用不锈钢、铜及铜合金等。化学抛光对钢铁零件，尤其是低碳钢有较好的抛光效果，所以对于一些机械抛光时较为困难的钢铁零件，可采用化学抛光。
原理：化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产效率高。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。抛光剂价格-昆山韩铝化学1-泉州抛光剂由昆山市韩铝化学表面材料有限公司提供。昆山市韩铝化学表面材料有限公司（www.hlhx.cn）为客户提供“化工原料及产品，五金材料，化学试剂”等业务，公司拥有“化工原料及产品，五金材料，化学试剂”等品牌。专注于化工产品等行业，在江苏苏州 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：王总。